1.濺射技術是利用高能離子轟擊靶材形成濺射物流，在襯底表面沉積形成薄膜的一種鍍膜技術。濺射技術包括射頻磁控濺射、反應濺射、多元靶濺射及離子束濺射。其中，磁控濺射由于沉積速率可以比其他濺射辦法大很多，是目前使用最為廣泛的一種薄膜沉積辦法。由于優良的結構穩定性和循環性能，氧化鉆鋰被廣泛使用在商品化的鋰離子電池中。在薄膜鋰離子電池研究中也常常使用其薄膜作為陰極材料。Jang等采用射頻磁控濺射法得到LiCoO2薄膜，研究得出薄膜中顆粒變小可以提高電壓循環穩定性從而提高容量和能量密度。

2.H.Y.Park等在不同偏壓下采用射頻磁控濺射法沉積LiCoO2了陰極薄膜，循環伏安和充放電探測聲明沉積過程中采取不同基體偏壓對其結構和電化學性能有著分明影響。采用這種辦法可不要后續退火過程而筆直用于薄膜電池的陰極材料。

3.劉文元等采用射頻磁控濺射技術制備了非晶態和不同取向的多晶LiCoO2薄膜，利用XRD和SEM研究了不同溫度退火后LiCoO2薄膜的結構和形貌。以具有不同結構的LiCoO2薄膜為陰極、含氨磷酸鋰薄膜為電解質以及金屬鋰薄膜為陽極，成功地制備了電化學性能不同的全固態薄膜鋰離子電池。由電化學研究結果聲明，LiCoO2薄膜的結構和多晶取向決定了薄膜電池的電化學性能。采用具有一定取向的多晶LiCoO2薄膜制備的全固態薄膜鋰離子電池具有最佳的性能，穩定放電容量達到55.4uAh/cm2um，充放電循環次數超過450次。

4.LiNiO2理論容量較高，比LiCoO2價格便宜，對環境污染也較小，所以有希望成為取代LiCoO2的電極材料。H.K.Kim等以LiNiO2為靶材，O2/（Ar+O2）比為0.1氣氛下，采用射頻磁控濺射法沉積得到非晶態LiNiO2薄膜，在700℃氧氣氣氛下快速熱退火10分鐘后得到結晶的LiNiO2薄膜。采用經快速熱退火解決的LiNiO2薄膜陰極（厚1.13um）組裝的全固態薄膜電池顯示出穩定的循環性能。作者指出，經快速熱退火解決的LiNiO2薄膜陰極是制備高性能全固態薄膜電池很有希望的陰極材料。

5.A.Urbano等人用射頻磁控濺射的辦法制備了LixNiOy薄膜，為LixNiOy陰極膜的濺射供應了部分根據。

DuksuKim等人首先用射頻磁控濺射的辦法制備了有良好電化學活性的LiNixCo12×O2陰極膜，試驗對兩種不同摩爾比合成靶材濺射的LiNixCo12xO2陰極膜作了比較研究，指出在氬氣和氧氣（摩爾比為2：1）混合壓為1.33Pa、濺射功率密度1.23W/cm2條件下LiNO3、NiCO3和Co（NO3）2-6H20爾比1.05：0.5：0.5合成粉末靶，在Pt（50nm）/SiO2/Si（100）襯底上濺射的LiNixCo12xO2膜，經過快速退火解決，有良好的容量保持性能。隨著循環次數的新增，容量惟有很少的降低。ChengLL等討論了在不同條件下制備的LiCoO2薄膜的性能，結果聲明在250℃條件下以Si基板為襯底，氧氣分壓在0.665~1.33Pa范圍內，可以制得納米晶型的LiCoO2薄膜，當氧氣分壓高于1.33Pa或低于0.665Pa時，會有Co304雜相出現，這說明氧氣分壓在制備過程中起很緊要的用途。同時還討論了退火溫度對LiCoO2的電化學性能的影響，當退火溫度分別為500℃、600℃、700℃時，電池的放電容量分別為41.77、50.62和61.16Ah/（cm2um）。

6.Dudney研究發現由于在濺射過程中難以控制和優化鋰錳氧計量比，LiMn204晶態薄膜電極的循環性能和內阻表現出的再生能力比LiCoO2差。

（二）脈沖激光沉積法

1.PLD最早出現于20世紀60年代，一開始由于氣相鍍膜方式占據了制膜辦法的統治地位和PLD辦法本身的發展不夠，并沒有受到重視。1987年PLD因成功制備YbCO高溫超導薄膜而發展起來，近些年來，更是在制備鐵電薄膜中得到廣泛使用。它的基本過程是將一束高功率脈沖激光聚焦到符合化學計量比的陶瓷燒結靶表面上，靶表面瞬時局部溫度可達103℃~104℃，蒸發出含有靶材成分的等離子體羽輝，羽輝中蘊含處于基態和激發態的原子、分子、團簇和高能電子，這些粒子以較高的能量到達加熱的基片表面而成膜。使用該辦法制得的膜的緊要優勢是：污染小；薄膜與靶材的成份保持一致；逸出粒子具有較大的能量，沿襯底表面的擴散較為猛烈，沉積速率高；另外，在制膜的過程中，脈沖重復頻率低，原子在兩次脈沖蒸發間有足夠的時間擴散到吉布斯自由能最低位置，這樣有利于薄膜生長，提高薄膜質量。Sriehe等用248nm激光制備了LiCoO2和LiMn204薄膜。復旦大學化學系激光化學研究所薛明喆等采用脈沖激光沉積結合高溫退火的辦法在不銹鋼基片上制備了LiFePO4薄膜電極，充放電探測聲明，LiFePO4薄膜具有3.45~3.40V的充放電平臺，與LiFePO4粉體材料相當，首次放電容量為27mAh/g。